అణు శక్తి పరిశ్రమ కోసం అధిక స్వచ్ఛత మెటల్ Hafnium పొడి
ఉత్పత్తి వివరణ
హాఫ్నియం ఒక మెరిసే వెండి-బూడిద పరివర్తన లోహం.హాఫ్నియం పలుచన హైడ్రోక్లోరిక్ ఆమ్లం, పలుచన సల్ఫ్యూరిక్ ఆమ్లం మరియు బలమైన క్షార ద్రావణాలతో చర్య తీసుకోదు, అయితే ఇది హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం మరియు ఆక్వా రెజియాలో కరుగుతుంది.హాఫ్నియం పొడిని సాధారణంగా హైడ్రోడీహైడ్రోజనేషన్ ప్రక్రియ ద్వారా ఉత్పత్తి చేస్తారు.
స్పెసిఫికేషన్
| Zr+Hf | O | Zr | సి | సి | Hf |
| 99.5నిమి. | 0.077 | 1.5 | 0.08 | 0.009 | సంతులనం |
అప్లికేషన్
Hafnium Hf పౌడర్ ప్రధానంగా ఉపయోగించబడుతుంది:
1. సాధారణంగా ఎక్స్-రే కాథోడ్ మరియు టంగ్స్టన్ వైర్ తయారీలో ఉపయోగిస్తారు;
2. స్వచ్ఛమైన హాఫ్నియం ప్లాస్టిసిటీ, సులభమైన ప్రాసెసింగ్ మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత తుప్పు నిరోధకత యొక్క ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది మరియు అణు శక్తి పరిశ్రమలో ముఖ్యమైన పదార్థం;
3. హాఫ్నియం ఒక పెద్ద థర్మల్ న్యూట్రాన్ క్యాప్చర్ విభాగాన్ని కలిగి ఉంది, ఇది ఒక ఆదర్శ న్యూట్రాన్ అబ్జార్బర్‌గా చేస్తుంది, దీనిని అణు రియాక్టర్‌లలో నియంత్రణ రాడ్ మరియు రక్షణ పరికరంగా ఉపయోగించవచ్చు;
4. హాఫ్నియం పొడిని రాకెట్లకు ప్రొపెల్లెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు
5. హాఫ్నియంను అనేక గాలితో కూడిన వ్యవస్థలకు పొందే సాధనంగా ఉపయోగించవచ్చు.హాఫ్నియం గెటర్ ఆక్సిజన్, నైట్రోజన్ మరియు వ్యవస్థలో ఉన్న ఇతర అనవసరమైన వాయువులను తొలగించగలదు;
6. హై-రిస్క్ ఆపరేషన్ల సమయంలో హైడ్రాలిక్ ఆయిల్ యొక్క అస్థిరతను నివారించడానికి హాఫ్నియం తరచుగా హైడ్రాలిక్ ఆయిల్‌లో సంకలితంగా ఉపయోగించబడుతుంది.Hafnium బలమైన వ్యతిరేక అస్థిరతను కలిగి ఉన్నందున, దీనిని సాధారణంగా పారిశ్రామిక హైడ్రాలిక్ నూనె మరియు వైద్య హైడ్రాలిక్ నూనెలో ఉపయోగిస్తారు;
7. Hafnium మూలకం తాజా Intel45nm ప్రాసెసర్‌లో కూడా ఉపయోగించబడుతుంది;
8. హాఫ్నియం మిశ్రమాలను రాకెట్ నాజిల్‌లు మరియు గ్లైడింగ్ రీ-ఎంట్రీ వాహనాలకు ముందు రక్షణ పూతగా ఉపయోగించవచ్చు మరియు టూల్ స్టీల్స్ మరియు రెసిస్టెన్స్ మెటీరియల్‌లను తయారు చేయడానికి Hf-Ta మిశ్రమాలను ఉపయోగించవచ్చు.టంగ్స్టన్, మాలిబ్డినం మరియు టాంటాలమ్ మిశ్రమాలు వంటి వేడి-నిరోధక మిశ్రమాలలో హాఫ్నియం సంకలిత మూలకం వలె ఉపయోగించబడుతుంది.HfC అధిక కాఠిన్యం మరియు ద్రవీభవన స్థానం కారణంగా సిమెంట్ కార్బైడ్ సంకలితంగా ఉపయోగించవచ్చు.
సంబంధిత ఉత్పత్తులు
మేము హాఫ్నియం వైర్ మరియు హాఫ్నియం రాడ్ కూడా సరఫరా చేస్తాము, సంప్రదించడానికి స్వాగతం!
